يبدو أنك لست عضوًا في TradeKey.com بعد. اشترك الآن للتواصل مع أكثر من 7 مليون مستورد ومصدر عالميًا.
انضم الآن ، مجانًا |
BOOK A CALL
Book Call On Your Favorite Time

By Signing Up. I agree to TradeKey.com Terms of Use, Privacy Policy, IPR and receive emails related to our services

Contact Us
product
Prev
Phantom III Reactive Ion Etch (RIE) System
Next

Phantom III Reactive Ion Etch (RIE) System

|

- Minimum Order

بلد:

USA

نموذج رقم:

-

سعر فوب:

أحصل على آخر سعر

الموقع:

-

سعر الحد الأدنى للطلب:

-

الحد الأدني للطلب:

-

تفاصيل التغليف:

-

موعد التسليم:

-

القدرة على التوريد:

-

نوع الدفع:

Other

مجموعة المنتج :

-

الاتصال الآن
1st عام

الشخص الذي يمكن الاتصال به Addison

Clearwater, Florida

الاتصال الآن

الوصف

The Phantom III RIE is designed to supply research and failure analysis laboratories with state-of-the-art plasma etch capability using single wafers, dies or parts using fluorine and oxygen based chemistries. The system has a compact, modular design built on a space-saving platform.

بلد: USA
نموذج رقم: -
سعر فوب: أحصل على آخر سعر
الموقع: -
سعر الحد الأدنى للطلب: -
الحد الأدني للطلب: -
تفاصيل التغليف: -
موعد التسليم: -
القدرة على التوريد: -
نوع الدفع: Other
مجموعة المنتج : -
Phantom III Reactive Ion Etch (RIE) System

منتجات ذات العلاق Trion Technology

Send a direct inquiry to this supplier

إلى:

Addison < Trion Technology >

أريد أن أعرف: